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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为85英寸晶圆生产方式线设施的超去离子水系统化,一天到晚造成含硅生产废水150吨。生产废水里虽无巨资属,但硅占比高易水垢,且电阻值率需到达18MΩ·cm方能造纸废水操作。原本操作加工无非充分考虑新实施的《电子器材工业园水污染破坏物直接废气排放规定》(GB39731-2020)格外直接废气排放允许值。 电镀废水材料优势特点 重点弄脏物 :固体硅(200-300mg/L)、粉末硅(粒级0.1-1μm) 层次性特殊要求 :TOC<10μg/L,硼份量<5μg/L 水质检测性能 :低电阻率(<50μS/cm)但硅有机物特性有难度 处置的工艺工作流程 全新通过"梯级膜脱离+电去阴离子"组装工序: 微滤预净化处理 :1μm卫浴陶瓷膜手机拦截大颗粒物硅,通量保护80LMH 阴离子对调不饱和树脂 :D201大孔树脂材料会暂时性吸咐硅酸大分子 二级考试RO系统软件 :一号段收购率60%,第三段用于高脱硼膜电子器件 EDI电去铝离子 :电流大小黏度2A/m²,不间断快速清理残存铁离子 太阳光的紫外线灭菌 :254nm紫外光线分子量40mJ/cm² 技巧闪光点 开发建设专属阻硅剂(有机的胺类混合物),延迟膜污染问题周期时间3倍 EDI摸块科技创新流道的设计,硅洗去率大幅提升至99.8% 在线播放硅研究分析仪器(检测的比率0.1-500μg/L)把控深度贫困把控 开机运行效果 经再者方判断: 总硅从280mg/L减至0.05mg/L 硼分量从8μg/L下降0.3μg/L 软件收旧率从原40%提高了至68% 膜撤换频次增加至5年,年行驶的成本有效降低35%

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